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第1057章 “踹门人”＆红皮猴子？？（第1页）

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除了刻蚀设备领域，其他国产半导体设备商，也取得了一定的阶段性成果。

比如，沉积设备领域。

拓荆的PECVD设备，已进入中芯国际，进行14nm验证，预计1819年实现量产。

北方华创推出的14nmPECVD和ALD设备，预计将于18年，在14nmFinFET实现批量应用。

光刻设备领域。

魔都微电子，已实现90nm光刻机量产。

整体而言，仍与ASML有着8~10年的差距。

嗯。。

慢慢追好了~

至于量测设备、化学机械抛光、材料等多个领域，暂时还没有什么突破性进展，但也都在有序推进。

对此，洛川也没怎么失望就是了。

事实上，极

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